”）凭仗在技能立异方面的积极探索与持续开展，取得“技能立异企业奖”，显示了职业对公司研制技能与发明新式事物的才能的认可。

  据悉，此次展会上，等离子刻蚀设备和晶圆外表原子处理设备模型在展台特别展出。如RENA-E®系列等离子体刻蚀设备以共同的电感耦合等离子技能为中心，完成快速介质刻蚀，兼具高刻蚀速率与低器材等离子体损害。其灵敏操控离子能量的才能，有用提高了刻蚀功率并保护器材质量。一起，使用电感耦合特性，处理了传统电容耦合刻蚀中的副产物堆积问题，延长了腔室部件寿数，显着提高均匀保护间隔时间，降低了运维本钱。这些技能优势使RENA-E®成为极具竞争力的大规模量产电感耦合等离子体PAD（钝化层）刻蚀设备。

  Nebulex®挑选性刻蚀设备根据业界抢先的长途等离子体系，在广大的工艺范围上供给了共同的气体挑选与离子辅佐操控方法，在去除介电和导体薄膜资料方面表现出优异的挑选性，针对特定结构供给优异的均匀度操控。未来，表明，将持续安身设备范畴，以立异驱动开展，以专业服务客户，为半导体工业高质量开展注入更多动力。